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    上海伯东真空产品事业部搬迁通知

    Hakuto (NS) 离子蚀刻机

    Hakuto NS 日本原装设计制造离子刻蚀机, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对黄金 AU, 铂 PT, 合金等金属及半导体材料也能提供最优蚀刻. 适用于 MR 薄膜磁头, 自旋电子学, 应力传感器, 射频滤波器, 超导体, 复合半导体材料的刻蚀. NS 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!

    Hakuto (NS) 离子蚀刻机

    Hakuto (NS) 离子蚀刻机对磁性材料, 黄金, 铂和合金金属提供最佳蚀刻技术. 适合做各种材料的蚀刻.

    型号

    NS 7.5IBE

    NS 10IBE

    NS 20IBE-C

    NS 20IBE-J

    适用范围

    适用于科研院所,实验室研究

    适合小规模量产使用和实验室研究

    适合中等规模量产使用的离子刻蚀机

    适合大规模量产使用的离子刻蚀机

    基片尺寸

    Φ4 X 1片或
    Φ6 X 1片

    φ8 X 1片

    φ3 inch X 8片
    φ4 inch X 6片
    φ8 inch X 1片

    Φ4 inch X 12片
    φ5 inch X 10片
    φ6 inch X 8片

    NS 离子蚀刻机 7.5IBE

    小型离子蚀刻机,适用于科研院所,实验室研究

    NS 离子蚀刻机 10IBE

    小型离子蚀刻机,适合小规模量产使用和实验室研究

    NS 离子蚀刻机 20IBE-C

    适合中等规模量产使用的离子刻蚀机

     

    NS 离子蚀刻机 20IBE-J

    适合大规模量产使用的离子刻蚀机

     

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