"

✅【135e.cn】7k彩票平台注册,亚洲最正规遊戏公司✅顶尖原生APP,7k彩票平台注册,多款游戏集于一体,非常注重玩家体验|7*24H在线服务|期待您加入我们!

  • "
    上海伯东真空产品事业部搬迁通知

    霍尔离子源 eH 200
    阅读数: 6845

    霍尔离子源 eH 200

    KRI 霍尔离子源 eH 200
    上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.

    KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数:

    型号

    eH 200

    供电

    DC magnetic confinement

      - 电压

    40-300V VDC

      - 离子源直径

    ~ 2 cm

      - 阳极结构

    ??榛?/p>

    电源控制

    eHx-3005A

    配置

    -

      - 阴极中和器

    Filament or Hollow Cathode

      - 离子束发散角度

    > 45° (hwhm)

      - 阳极

    标准或 Grooved

      - 水冷

      - 底座

    移动或快接法兰

      - 高度

    2.0'

      - 直径

    2.5'

      -加工材料

    金属
    电介质
    半导体

      -工艺气体

    Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

      - 安装距离

    6-24”

      - 自动控制

    控制4种气体

    * 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder

    KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域:
    溅镀和蒸发镀膜 PC
    辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
    表面改性, 激活 SM
    直接沉积 DD

    其他产品
    7k彩票平台注册