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    上海伯东真空产品事业部搬迁通知

    KRI 离子源应用
    阅读数: 639

    KRI 离子源应用

    KRI 离子源应用
    上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源主要应用于真空环境下的离子束辅助沉积, 纳米级的干式蚀刻和表面改性.

     常见的工艺应用

    简称

     In-Situ Substrate Preclean 基片预清洗

    PC

     Ion Beam Modification of Material & Surface Properties 离子束材料和表面改性
     - Surface polishing or smoothing 表面抛光
     - Surface nano structures and texturing 改变纳米结构和纹理
     - Ion figuring and enhancement 离子刻蚀成形
     - Ion trimming and tuning 离子表面优化
     - Surface activated bonding

    IBSM




    SAB

     Ion Beam Assisted Deposition 离子束辅助沉积

    IBAD

     Ion Beam Etching 离子蚀刻
     - Reactive Ion Beam Etching 反应离子蚀刻
     - Chemically Assisted Ion Beam Etching 化学辅助离子蚀刻

    IBE
    RIBE
    CAIBE

     Ion Beam Sputter Deposition 磁控溅射辅助沉积
     - Reactive Ion Beam Sputter Deposition 反应离子磁控溅射沉积
     - Biased Target Ion Beam Sputter Deposition 偏压离子束磁控溅射

    IBSD
    RIBSD
    BTIBSD

     Direct Deposition 直接沉积
     - Hard and functional coatings 硬质和功能膜

    DD


    作为一种新兴的材料加工技术, 美国 KRI 考夫曼离子源凭借出色的技术性能, 协助客户获得理想的薄膜和材料表面性能. 行业涉及精密光学, 半导体制造, 传感器, 医学等多个领域.

    薄膜镀膜
     

    精密薄膜控制
    薄膜为若干单层膜

    考夫曼离子源
     

    半导体
    可重复使用的金属涂层附着力

    离子蚀刻
     

    蚀刻晶元
    刻蚀均匀性和临界几何尺寸

    离子源
     

    MEMS, 传感器和显示器
    表面优化
     

    离子源
     

    精密光学
    薄膜致密稳定, 折射率优化, 吸收率低

    离子源
     

    磁数据存储
    金属和介质多层堆叠中纳米特性的各向异性和均匀腐蚀

     

     

     

     

     

     

     

     

    其他产品
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