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    上海伯东真空产品事业部搬迁通知

    霍尔离子源 eH 3000
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    霍尔离子源 eH 3000

    KRI 霍尔离子源 eH 3000
    上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.
    尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”
    放电电压 / 电流: 50-300V / 20A
    操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

    KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性
    水冷 - 加速冷却
    可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少?;奔? 即插即用备用阳极
    宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
    多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便
    高效的等离子转换和稳定的功率控制

    KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数

    型号

    eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

    供电

    DC magnetic confinement

      - 电压

    50-250V VDC

      - 离子源直径

    ~ 7 cm

      - 阳极结构

    ??榛?/p>

    电源控制

    eHx-25020A

    配置

    -

     - 阴极中和器

    Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

     - 离子束发散角度

    > 45° (hwhm)

      - 阳极

    标准或 Grooved

     - 水冷

    前板水冷

     - 底座

    移动或快接法兰

     - 高度

    4.0'

     - 直径

    5.7'

     - 加工材料

    金属
    电介质
    半导体

     - 工艺气体

    Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

     - 安装距离

    16-45”

     - 自动控制

    控制4种气体

    * 可选: 可调角度的支架;

    KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域
    溅镀和蒸发镀膜 PC
    辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD
    表面改性, 激活 SM
    直接沉积 DD

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