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    上海伯东真空产品事业部搬迁通知

    射频离子源 RFICP 220
    阅读数: 6624

    射频离子源 RFICP 220

    KRI 射频离子源 RFICP 220
    上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 离子源 RFICP 220 配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA.

    KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

    型号

    RFICP 220

    供电

    RF 射频感应耦合

     - 阴极灯丝

    -

     - 射频功率

    2 KW

    电子束

    OptiBeam™

     - 栅极

    专用,自对准

     -栅极直径

    22 cm

    中和器

    LFN 2000

    电源控制

    RFICP 1510-2-10-LFNA

    配置

    -

     - 阴极中和器

    LFN2000 or MHC1000 or RFN

     - 安装

    移动或快速法兰

     - 高度

    11.8'

     - 直径

    16.1'

     - 离子束

    聚焦
    平行
    散设

     -加工材料

    金属
    电介质
    半导体

     -工艺气体

    惰性
    活性
    混合

     -安装距离

    8-45”

     - 自动控制

    控制4种气体

    * 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

    KRI 考夫曼离子源 RFICP 220 应用领域:
    预清洗
    表面改性
    辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
    溅镀和蒸发镀膜 PC
    离子溅射沉积和多层结构 IBSD
    离子蚀刻 IBE

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